아이에스티이, 반도체 장비 기술 기반 코스닥 도전…증권신고서 제출

반도체 장비기업 아이에스티이가 금융위원회에 증권신고서를 제출하고 코스닥 상장을 위한 본격적인 공모 절차에 돌입한다.

29일 금융감독원 전자공시에 따르면 아이에스티이가 공모하는 주식수는 총 160만주로, 희망 공모가 범위는 9700원~1만1400원, 총 공모금액은 155억원~182억원이다.

내달 15일부터 21일까지 기관투자자 대상 수요예측을 통해 공모가를 확정한 뒤, 같은 달 26일과 27일 이틀 동안 일반 청약을 진행할 예정이다. 상장 주관사는 KB증권이다.

2013년에 설립된 아이에스티이는 반도체 장비를 개발하고 양산하는 전문기업으로, 반도체 핵심 공정 장비인 ‘PECVD’ 개발에 성공함으로써 미래 성장을 위해 힘을 쏟고 있다. 올해 상반기 연결 기준 매출 188억원, 영업이익 23억원을 기록했다.

PECVD는 플라즈마 기상 화학 증착장비로, 플라즈마를 사용해 기체 상태의 물질을 기판 표면에 증착하는 역할을 한다.

전문 연구인력과 PECVD 국책과제 수행을 바탕으로 2021년 SiCN(실리콘, 탄소, 질소를 결합한 화합물)을 기반으로 한 PECVD 장비 개발에 성공했다.

이후 글로벌 HBM 선두주자인 SK하이닉스로부터 기술혁신기업으로 선정됐다. SiCN PECVD 장비 납품을 위한 퀄 테스트(Qual-Test)를 완료한 후 현재 양산 검증 단계에 있다고 회사측은 설명했다.

아이에스티이가 PECVD 시장에 성공적으로 진입하게 될 경우 주력 장비인 풉 클리너(FOUP Cleaner)와 함께 반도체 핵심 장비를 갖춘 기업으로 업계 내 경쟁력을 확고히 할 것으로 보인다.

풉 클리너에서 풉(FOUP)은 웨이퍼(Wafer)를 적재하는 용기를 의미한다. 반도체 제조공정(세정·적재·보관·이송 등)에서 발생되는 불순물로부터 웨이퍼를 보호하는 역할을 하고, 해당 용기인 풉(FOUP)을 세척한다.

아이에스티이는 앞서 진행했던 기술성 평가에서 한국산업기술진흥권과 한국평가데이터 2개 기관으로부터 모두 A등급을 획득하며 기술력을 입증했다.

또한, 글로벌 유일 풉 클리너(FOUP Cleaner) 분리 세정 기술을 보유하고 있다. 기존에는 풉 커버(Cover)와 바디(Body)를 한꺼번에 세정하고 건조시켰지만 아이에스티이는 자체 기술력을 통해 풉을 분리하여 세정 및 건조함으로써 세정력과 건조 효율 뿐만 아니라 공정 시간 감소에 따른 생산 효율도 높였다.

국내 최초로 HBM용 풉 클리너와 PLP용 풉 클리너를 개발하고 공급하는 등 고객사가 원하는 사양에 맞춰 대응함으로써 아이에스티이는 선제적 제품 고도화로 반도체 장비 시장을 선도하고 있다.

상장을 통해 공모자금은 신사업인 PECVD 장비 개발 및 사업화를 위한 운영자금과 신규 공장 부지 취득 등에 사용할 예정이다.

조창현 대표는 “당사는 지속적인 연구개발로 독창적이고 차별화된 기술력을 확보하며 빠르게 성장하고 있는 HBM과 PLP 시장을 선도해 나감으로써, PECVD와 풉 클리너 장비의 세계화를 이뤄나가겠다”고 밝혔다.

파이낸셜투데이 한경석 기자